Die neue Generation der Dosier- & Mischanlagen für Flüssigsilikon

LSR

LSR eTwin Connect

Die neue Generation der Dosier- & Mischanlagen für Flüssigsilikon

Übersicht

Die LSR eTwin Connect repräsentiert die neue Generation der Dosier- & Mischanlagen für Flüssigsilikon. Sie erfüllt die Anforderungen nach stetig hoher Produktivität und Qualität bei kleinen sowie hohen Schussgewichten gleichermaßen. Dank der engen Kooperation mit unseren Partnern, wie Spritzgussmaschinenherstellern, Materialverarbeitern und -herstellern, kann die LSR eTwin Connect mit ihren Eigenschaften überzeugen.

Kompaktes Design
Hohe Effizienz
Industrie 4.0
Single- und Tandemversion

Vorteile

Modernes und kompaktes Design

Perfektes Mischungsverhältnis

Bis zu 99,75% Materialnutzung

Wartungsfreundlichkeit

Prozesssichere Pumpentechnologie

Pulsationsfreier Volumenstrom

Prozessoptimierung

Bereit für Industrie 4.0

Inklusive automatischer Fassverriegelung und bedienerfreundlicher Fassverriegelung

Dosierung von bis zu vier Additiven (Farben)

Technische Daten

Länge

1.150 mm

Breite

1.200 mm

Höhe

1.970 mm

Höhe (im ausgefahrenen Zustand)

2.270 mm

Mischungsverhältnis nach Volumen

1:1

Max. Betriebsdruck

200 bar

Betriebsspannung

3Ph. 400-460 VAC + N + PE (weitere Netzwerte auf Anfrage)

Frequenz

50-60 Hz

Anschlussleistung (ges.)

4,5 kVA

Luftdruck (min.)

6 bar

Pneumatischer Anschluss

G1/2 Innengewinde

Max. Druckluftverbrauch

500 l/min

Gewicht

ca. 695 kg

Kundenreferenzen

Anhand von Anwendungsbeispielen aus verschiedenen Branchen erhalten Sie einen Einblick, wie unsere Produkte und Lösungen in der Praxis eingesetzt werden.

Zu den Kundenreferenzen

Downloads

Produktbroschüre LSR eTwin Connect

PDF | 1,13 MB

Produktdatenblatt LSR eTwin Connect

PDF | 330,03 KB